Inteliltä läpimurto prosessorien valmistukseen
0
Intel on aloittanut uuden ajan prosessorivalmistuksessa ottamalla ensimmäisenä maailmassa käyttöön ultraviolettivaloon perustuvan EUV-valmistusjärjestelmän (Extreme Ultraviolet Lithography). Tekniikka tulee ilmeisesti lähivuosina korvaamaan prosessorivalmistajien perinteiset menetelmät, koska sillä pystytään ahtamaan transistoreja piisiruille huomattavasti nykyistä tiheämpään. Intel uskoo, että EUV:n avulla pc-prosessorien kellonopeuksia voitaisiin kasvattaa noin kymmenen gigahertsin tasolle.
Prosessorien valmistuksessa käytettävä litografialaitteisto on erittäin monimutkainen järjestelmä, ja yhden laitteen hinta saattaa olla jopa 15 miljoonaa euroa. Sirujen valmistus tapahtuu hieman perinteisen valokuvauksen tapaan valottamalla muodostettavat osat piirisirun pinnalle yksi kerros kerrallaan.
Nykyisissä laitteissa valotukseen käytetään tavallista valoa, jonka aallonpituus on noin 190 nanometriä. Viivanleveydet ovat perinteisellä tekniikalla tarkkuuslinssien ansiosta parhaimmillaan noin 50 nanometriä. EUV-laitteissa käytettävän ultraviolettivalon aallonpituus on vain noin 13,5 nanometriä, joten sillä voidaan valmistaa paljon nykyistä pienempiä rakenteita. Säteen ohjaukseen käytetään linssien sijaan peilejä.
Intelin mukaan EUV-tekniikasta tulee alan standardi viimeistään vuonna 2009. Tällä hetkellä Intelin parhaat sirut valmistetaan 90 nanometrin tekniikalla, ja 50 nanometrin tekniikka on kehityksessä. Laajemmin EUV-tekniikkaan siirrytään 30 nanometrin valmistuksessa, johon ei perinteisillä keinoilla ilmeisesti enää pystytä.
