Immersio mahdollistaa 45 nanometriä
0
Mikropiireissä kuvioita on jo pitkään piirretty selvästi käytettävän valon aallonpituutta ohuemmiksi. Nyt näyttää siltä, että immersiolitografia mahdollistaa myös 45 nanometrin viivanleveydet nykyisillä aallonpituuksilla.
Uusimmat askelvalottimet hyödyntävät 193 nanometrin laseria, ja sillä pystytään jo nyt piirtämään 65 nanometrin kuvioita maskeille. Immersion avulla 193 nanometrin laser pystyy tarkentumaan myös 45 nanometriin.
Tähän tulokseen tultiin kansainvälisessä litografiasymposiumissa, joka järjestettiin syyskuun puolivälissä Belgiassa. Tapahtumaa isännöi belgialainen mikroelektroniikan tutkimuskeskus IMEC.
Valo kulkee nesteen läpi
Immersiossa valo kulkee nesteen läpi, ja piirtokuvio syntyy monimutkaisen linssijärjestelmän läpi. Ensimmäisen sukupolven immersiotestilaitteissa (kuvassa) valo on viety veden läpi, mutta IMECin mukaan immersiotutkimuksessa kehitetään muita nesteitä vettä korvaamaan.
Ennen 45 nanometrin volyymituotantoa immersiovalottimien piirtokuvion pitää kuitenkin edelleen tarkentua. Tätä työtä tutkimuslaitokset, askelvalottimien ja maskien valmistajat sekä eda-talot tekevät yhdessä kovaa vauhtia. (Prosessori)
