Intel ja Micron perustavat yhden muistitehtaan vuodessa
0
Intel ja Micron Technology perustavat Nand-muisteja valmistavan tuotantolaitoksen Singaporeen. Intelin mukaan tuotanto laajentuu uuden tehtaan myötä merkittävästi ja nostaa Nand-flash-muisteja valmistavien tuotantolaitosten määrän neljään.
Vuoden 2008 aikana käyttöön otettavassa Singaporen tehtaalla muisteja valmistetaan 300 millimetrin piikiekoista 50 nanometrin prosessilla. "Strategiamme mukaan rakennamme yhden 300 millimetrin piikiekkoja valmistavan tehtaan joka vuosi. Näillä toimenpiteillä olemme yksi kärkituottajista Nand-flash-muistien markkinoilla", Intelin flash-muisteista vastaava johtaja Brian Harrison kehuu.
Intel ja Micron tovat perustaneet 300 millimetrin piikiekoista Nand-flash-muisteja valmistavia tehtaita USA:n Virginiaan ja Utahiin. Lisäksi Nand-muisteja valmistetaan Micronin tehtaalla Idahossa.
Yritykset julkistivat tämän vuoden heinäkuussa alan ensimmäisen, 50 nanometrin prosessiteknologialla valmistetun Nand-flash-muistin. Tällä hetkellä yritykset kertovat testaavansa neljän gigabitin 50 nanometrin laitteita.
