Taiwanilaisvalmistajat yhteistyöhön – tavoitteena 15 nanometriä
0
Puolijohdetekniikan kehitystyö jatkuu kiivaana. Valmistustekniikka on mullistunut viimeisen vuosikymmenen aikana.
Taiwanin kansallinen nanolaitelaboratorio NDL aikoo perustaa tutkimus- ja tuotekehitysliittouman maan suurimpien puolijohdevalmistajien kanssa. Tavoitteena on erittäin hienostunutta 15 nanometrin valmistustekniikkaa käyttävien sirukomponenttien suunnittelu.
Toistaiseksi Taiwanin suurimmat valmistajat eivät ole uutissivusto Digitimesin saamien tietojen mukaan innostuneet liittoumasta. Esimerkiksi TSMC:n uskotaan toistaiseksi jättäytyvän sivuun yhteistyöstä.
Valmistustekniikan kehitys on ollut nopeaa, sillä ensimmäiset vuosituhannen alussa lanseeratut Pentium 4 -suorittimet perustuivat 180 nanometrin viivanleveyteen. Nykyään Intelin kehittyneimmät sirut valotetaan 32 nanometrin prosessilla.
